電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)成功問(wèn)世

多晶硅是用工業(yè)硅通過(guò)化學(xué)、物理途徑提純制得，多晶硅主要用于生產(chǎn)單晶硅和衛(wèi)星太陽(yáng)能電池。單晶硅即硅半導(dǎo)體是多晶硅的衍生產(chǎn)品，是制造繼承電路和電子元件的優(yōu)質(zhì)材料，被廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)中。

還原爐沉積多晶硅是間歇操作，一個(gè)運(yùn)行周期內(nèi)，硅棒不斷長(zhǎng)大，一個(gè)運(yùn)行周期結(jié)束后打開(kāi)鐘罩收割硅棒。但在運(yùn)行期內(nèi)，基盤(pán)及鐘罩表面均會(huì)產(chǎn)生一層土黃色粉末，其主要成分是無(wú)定形硅。在收割硅棒后，需要進(jìn)行基盤(pán)和鐘罩的清理，再裝硅芯進(jìn)行下一個(gè)周期的化學(xué)氣相沉積。
 
還原爐鐘罩污染物易造成內(nèi)表面熱量反射減少，使生產(chǎn)能耗增加；電極周?chē)�污染物降低了點(diǎn)擊的絕緣而導(dǎo)致運(yùn)行過(guò)程中接地故障、倒棒等生產(chǎn)事故。而用于電子行業(yè)的多晶硅對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量純凈度的控制要求更高，

隨著我國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展，對(duì)多晶硅純度要求越來(lái)越高，還原爐沉積環(huán)境的潔凈度就顯得特別關(guān)鍵，任何顆粒性雜質(zhì)、油脂等物質(zhì)余留在爐內(nèi)，都會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。那么，如何清理能方便快捷，同時(shí)效果更佳？

多晶硅還原爐清洗系統(tǒng)始于2009年，國(guó)內(nèi)第一家研發(fā)設(shè)計(jì)制造并獲得實(shí)用新型專(zhuān)利是北京德高潔清潔設(shè)備有限公司，該公司多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)覆蓋了國(guó)內(nèi)多家多晶硅生產(chǎn)企業(yè)。早期有高壓清洗、化學(xué)溶劑低壓清洗、機(jī)械拋光等，但大多釆用堿液中壓清洗，這些清洗方式不僅不能將鐘罩清洗干凈，還會(huì)損傷表面鍍銀的還原爐鐘罩，為攻克這一難題，一款全新的用于電子級(jí)的多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)應(yīng)運(yùn)而生。

電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)特點(diǎn)：

1、多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)以水為動(dòng)力，以水力自驅(qū)動(dòng)三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來(lái)完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射。

2、采用可以旋轉(zhuǎn)和升降的清洗吹干執(zhí)行機(jī)構(gòu)，根據(jù)還原爐每個(gè)視孔鏡相對(duì)原點(diǎn)的相對(duì)位置進(jìn)行準(zhǔn)確定位�？勺詣�(dòng)切換不同清洗液及吹干，通過(guò)控制系統(tǒng)可對(duì)清洗、吹干時(shí)間等進(jìn)行調(diào)整。清洗時(shí)只需一鍵操作即可，操作簡(jiǎn)單方便。

3、根據(jù)還原爐底部法蘭的結(jié)構(gòu)特設(shè)計(jì)升級(jí)后的清洗工作臺(tái)，不僅可以滿(mǎn)足對(duì)內(nèi)壁和視孔鏡的清洗，同時(shí)也滿(mǎn)足了底部法蘭的清洗�？蓪�(shí)現(xiàn)對(duì)法蘭內(nèi)邊緣的清洗，保證整個(gè)法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。

4、在整個(gè)還原爐的清洗過(guò)程中，清洗、干燥中筒內(nèi)形成微負(fù)壓狀態(tài)，防止清洗外溢，同時(shí)將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過(guò)排污管排出，從而保證了整個(gè)過(guò)程不會(huì)對(duì)潔凈區(qū)造成污染。
 
經(jīng)過(guò)實(shí)際應(yīng)用，多晶硅還原爐清洗系統(tǒng)整套系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化清洗操作，在一個(gè)工作平臺(tái)上，一次吊裝可依次實(shí)現(xiàn)自動(dòng)清洗烘干全部功能，完全實(shí)現(xiàn)無(wú)死角清洗，同時(shí)具有完善的聯(lián)鎖和保護(hù)功能。